纳米压印技术是一种新型微纳加工技术，通过机械转移手段达到超高分辨率，可分为热压印、紫外压印等，最高分辨率可达2纳米，且模板可反复使用，具有超高分辨率、易量产、低成本、一致性高等优点。

根据和仕咨询研究中心发布的《中国纳米压印技术（NIL）行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，2021-2026年年复合增长率可达17.74%，2026年市场有望达到33亿美元，未来几年在半导体等领域应用将更为广泛。

全球市场主要厂商有EVGroup、SUSSMicroTec等，行业集中度较高。中国市场竞争相对分散，苏大维格、美迪凯等国内上市公司已在纳米压印领域布局，积极推进技术研发和业务拓展。

这些主要应用于电子和半导体、光学、太阳能电池、医疗行业等。在半导体领域，有望降低制造成本，实现对传统光刻环节的替代；在光学领域，可用于制造微透镜阵列等光学元器件，如炬光科技的产品已应用于汽车投影照明领域。

国内厂商将加大研发投入，提高纳米压印技术的精度、效率和可靠性，降低成本，开发新的应用领域和产品，如天仁微纳公司已能在150/300mm基底面积上实现高精度纳米压印，苏大维格建立了微纳光学研发与生产制造的基础技术平台体系。

和仕咨询行业分析人士表示，半导体、光学等行业的产业升级，对高精度、低成本的微纳加工技术需求增加，纳米压印技术作为一种新兴技术，将迎来更广阔的发展空间，如美光科技计划率先支持佳能的纳米印刷技术用于生产DRAM存储芯片，以降低成本。