生产光刻胶的原料主要是光刻胶树脂、光敏材料、溶剂及添加剂等。光刻胶产业链环节较多，覆盖面也较广，原材料质量及配方比例是决定光刻胶产品品质的重要因素。

光刻胶树脂是光刻胶核心组成部分，直接决定光刻胶在特定波长下可以达到的线宽，在原材料成本占比约50%，不同光刻胶树脂的结构不同：用于I线（365nm）和G线（436nm）的光刻胶主要成分是聚合物树脂、光敏化合物（PAC）和溶剂。溶剂含量变化可以改变光刻胶粘度，从而在合理的转速范围内得到刻蚀所需的厚度；PAC是重氮萘醌酯化合物，主要用于线性酚醛树脂体系光刻胶中，如g线/i线光刻胶，决定光刻胶的光敏程度，在光子的作用下，PAC分解，进而激发光化学反应。目前绝大多数的I/G线胶都是以酚醛树脂和二氮醌（DNQ）为主要成分的“novolac/DNQ”胶，其中DNQ占总质量的20%-50%。

我国光刻胶企业使用的树脂90%以上依赖进口，供应商以日本和美国厂商为主。全球光刻胶树脂主要由住友电木、日本曹达及美国陶氏等化工大厂供应，国内运用于光刻胶领域树脂几乎全部需要进口。

我国光刻胶树脂本土企业圣泉集团具备大规模量产光刻胶树脂能力，安智电子材料、强力新材等也有少量产出。圣泉集团生产的光刻胶用线性酚醛树脂成功打破国外垄断，通过对分子结构的设计，使产品具有高纯度、高耐热性、高电气绝缘性等特点，树脂中各种金属杂质控制达到了ppb级，适合各种光刻胶产品的生产。

内容节选自和仕咨询集团发布的《中国光刻胶树脂行业市场调研与投资预测报告（2023版）》，如有需求，联系和仕咨询集团010-67280121